Sitemap
Trimite unui prieten
PrintareProces tehnologic avansat, bazat pe pulverizarea catodică în regim magnetron a peliculelor metalice de Nb şi nanostructurilor Nb-CuNi cu caracteristici supraconductoare performante (Tc ≥ 5.5 K) şi stabile în timp
Descrierea:
Grosimea peliculelor metalice de Nb şi nanostructurilor Nb-CuNi, obţinute prin depunerea în vid (10-7 mBar), variază în intervalul de grosimi 
de la 5 pînă la 50 nm.
Temperatura de tranziţie supraconductoare (Tc ≥ 5.5 K) este performantă pentru nanostructurile Nb-CuNi subţiri de 5 nm.
Utilitatea:
Tehnologia propusă va servi baza elaborării unei noi generaţii de dispozitive microelectronice – valve de spin supraconductoare pentru sisteme cu frecvenţă înaltă, telecomunicaţii şi calculatoare rapide.
Elementul Inovational:
Pentru a asigura o stabilitate a paramertilor în timp a fost utilizată metoda de pasivizare prin acoperirea suprafeţei cu un strat protector de siliciu amorf cu grosimea de 5-6 nm.
Avantajele Inovatiei:
Procesul tehnologic elaborat permite fabricarea nanostructurilor peliculare de calitate înaltă, reproductibile şi stabile în timp pentu microelectronică.
Etapa de dezvoltare:
Procesul este în curs de testare.
Domeniu:
- Nanotehnologii & Electronică
